新唐科技發(fā)布高功率紫外激光二極管(379 nm,1.0 W)
Imec展示首個(gè)采用EUV光刻技術(shù)的晶圓級固態(tài)納米孔制造工藝
不一樣的展會(huì),不一樣的精彩:2025灣芯展順利收官
思坦科技助力深紫外Micro-LED顯示無掩膜光刻技術(shù)榮登Nature Photonics
光刻技術(shù)的基本原理是什么?主要有哪些應(yīng)用?
在當(dāng)下的半導(dǎo)體先進(jìn)制程領(lǐng)域中,三星、英特爾、臺(tái)積電三足鼎立,各有千秋
在當(dāng)下半導(dǎo)體先進(jìn)制程領(lǐng)域中,三星、英特爾、臺(tái)積電三足鼎立各有千秋
可編程邏輯件概述
光刻技術(shù)的工藝流程和曝光系統(tǒng)
中科院辟謠:5nm光刻技術(shù)被誤讀,國產(chǎn)水平在180nm
實(shí)現(xiàn)1.5KW高頻水泵驅(qū)動(dòng)成熟方案
預(yù)算:¥50000RK3588六路RealSenseD405多目三維重建系統(tǒng)開發(fā)項(xiàng)目
預(yù)算:¥100000