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世界最先进EUV光刻机开工！Intel已产3万块晶圆
2月26日消息，ASML Twinscan EXE:5000 EUV是当今世界上最先进的EUV极紫外光刻机，支持High-NA也就是高孔径，Intel去年抢先拿下了第一台，目前已经在俄勒冈州Fab D1晶圆厂安装部署了两台，正在紧张地研究测试中。
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俄罗斯宣布自研EUV光刻机：比ASML更便宜、更容易制造！
12月19日消息，据报道，俄罗斯已公布自主开发EUV(极紫外光刻)光刻机的路线图，目标是比ASML的光刻机更便宜、更容易制造。
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可绕过EUV量产5nm！佳能CEO：纳米压印设备无法卖到中国
11月6日消息，据彭博社报道，佳能公司正计划将其新的基于“纳米压印”技术的芯片制造设备的价格定为ASML的EUV光刻机的1/10。
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绕过EUV光刻机技术！佳能开始销售5nm芯片生产设备
10月14日消息，光刻机大厂佳能(Canon)公司近日通过新闻稿宣布，其已经开始销售基于“纳米印刷”(Nanoprinted lithography)技术的芯片生产设备 FPA-1200NZ2C。佳能表示，该设备采用不同于复杂光刻技术的方案，可以制造5nm芯片。
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EUV光刻机也卖不动了 台积电40%订单被砍
4月17日消息，随着PC、手机等行业需求下滑，半导体行业自从2022年下半年开始牛熊周期转换，台积电Q1季度业务业绩罕见低于预期，现在ASML的EUV光刻机也卖不动了，台积电被曝砍单40%订单。
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一台3亿欧元！ASML CEO：High-NA EUV将于2024年出货
综合韩联社、koreatimes报道显示，全球光刻机龙头大厂ASML首席执行官温宁克(Peter Wennink)于今日在韩国首尔召开的一场新闻发布会上表示，ASML新一代的High-NA EUV光刻机将于2024年开始发货，每台设备的价格将在3亿至3.5亿欧元之间。
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无需EUV光刻机 我国首条光子芯片产线明年建成：1000倍性能提升
除了硅基芯片之外，光子芯片也是未来的一大重点，其原理跟硅芯片不同，运算速度可提升1000倍以上，而且不依赖先进的光刻机，比如EUV光刻机，因此是各国争相发展的新一代信息科技。来自《北京日报》的消息，记者从中科鑫通获悉，国内首条“多材料、跨尺寸”的光子芯片生...
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消费电子砍单潮，台积电将关闭4台EUV光刻机！台积电：维护而已
自今年二季度以来，由于消费类电子市场对于半导体需求持续下滑，再加上新增晶圆制造产能的陆续开出，众多晶圆代工厂的产能利用率都出现了下滑。继7月有大陆成熟制程晶圆代工厂率先降价10%之后，近日有消息称，台湾晶圆代工厂的成熟制程报价也已累计下跌了20%。而计划明年继续涨价的台积电，目前的先进制程的产能利用率也出现了下滑，甚至开始计划关闭EUV光刻机来减少产能。
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曝台积电计划关闭部分EUV光刻机
EUV光刻机是半导体制造中的核心设备，只有ASML公司才能生产，单台售价约10亿人民币。价值不菲的光刻机，同时也是个十足的纸老虎，它的耗电量十分惊人，生产一天，大约需要消耗3万度电左右!工作一年就要消耗1000万度电。
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在当下的半导体先进制程领域中，三星、英特尔、台积电三足鼎立，各有千秋
如果说台积电成功的首要原因是是开创了半导体业界首个代工的模式，那么，持续不断的在逻辑制程上的自主研发，则是维持台积电一直成功前行的燃料。从1987年的3微米制程到预计2022年量产的3纳米，台积电平均2年开发一代新制程，这是台积电逻辑制程激荡的35年。
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在当下半导体先进制程领域中，三星、英特尔、台积电三足鼎立各有千秋
如果说台积电成功的首要原因是是开创了半导体业界首个代工的模式，那么，持续不断的在逻辑制程上的自主研发，则是维持台积电一直成功前行的燃料。从1987年的3微米制程到预计2022年量产的3纳米，台积电平均2年开发一代新制程，这是台积电逻辑制程激荡的35年。
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在韩国扩销！ASML 将 2025 年韩国 EUV 光刻机销售额目标扩至 147.5 亿欧元
近日，据韩国科技媒体 ETnews 报道，ASML 将其 2025 年在韩国的极紫外 (EUV) 光刻机销售目标提高到 20 万亿韩元(约合 147.5 亿欧元)。这个数字是去年的两倍多。这主要得益于三星电子和 SK 海力士的投资大幅增加。目前主要的光刻机买家就是三星电子和SK海力士了。
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1nm光刻机要来了，每台售价约20亿
众所周知，在芯片制造过程中，最重要的半导体设备就是光刻机。为什么说他最重要，一方面是因为它占所有制造设备成本的22%左右，同时也占工时的20%左右。
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新一代革命性EUV光刻机提前登场！价格翻番
新一代革命性EUV光刻机提前登场！价格翻番
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1nm时代的EUV光刻机长啥样？ASML已完成基本设计
本月中旬，在日本东京举办了ITF论坛上，与ASML(阿斯麦)合作研发光刻机的比利时半导体研究机构IMEC公布了3nm及以下制程的在微缩层面技术细节。
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台积电被握住咽喉,越来越依赖ASML的EUV光刻机
台积电是第一家将EUV(极紫外)光刻工艺商用到晶圆代工的企业，目前投产的工艺包括N7+、N6和N5三代。
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三星今年订购了9台EUV光刻机，李在镕跑ASML总部去催货
作为半导体生产中的重要设备，光刻机不可或缺，尤其是7nm以下先进工艺生产离不开的EUV光刻机，目前全球只有荷兰ASML公司能够生产，而台积电、三星、英特尔等晶圆生产大厂，都有迫切需求，因此这个市场出现了供不应求的局面。据businesskorea报道，三星电子副会长李在镕正敦促ASML的高管尽早交付三星今年订购的9台的EUV光刻机。
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无须EUV光刻机，中芯国际N+1代工艺年底试产
华为被禁之后，国产替代成了半导体企业关注的重点。作为中国最大，技术最先进的半导体代工厂家，中芯国际被寄予厚望。近日有媒体报道称，在大规模量产14nm工艺后，中芯国际的N+1代工艺已经进入客户导入阶段，可望于2021年进入量产。对此，中芯国际回应称，该公司的第一代FinFET 14nm工艺已于2019年第四季度量产，第二代FinFET N+1工艺已经进入客户导入阶段，可望于2020年底小批量试产。
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Intel/台积电/ASML齐捧EUV光刻：捍卫摩尔定律
日前，中国国际半导体技术大会（CSTIC）在上海开幕，为期19天，本次会议重点是探讨先进制造和封装。 其中，光刻机一哥ASML（阿斯麦）的研发副总裁Anthony Yen表示，EUV光刻工具是目前唯一
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SK海力士拟引入EUV光刻机，生产更新进工艺内存芯片
据韩国媒体报道，全球第二大DRAM内存供应商SK海力士已经在研发1a nm工艺的内存，内部代号“南极星”，具体节点大概在15nm，预计会引入EUV光刻机生产。
