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Cadence Virtuoso模拟IC版图验证的常见坑与规避
在模拟IC（Analog IC）版图设计中，DRC（Design Rule Check）与LVS（Layout Versus Schematic）是流片前的“生死关”。不同于数字后端，模拟版图高度依赖人工绘制，寄生效应、匹配、密度等问题极易被忽略。本文将总结Virtuoso版图验证中最高频的“深坑”及其规避方案。
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Cadence Virtuoso模拟IC版图设计：LVS/DRC一次通过的秘诀
在模拟IC版图设计中，DRC（设计规则检查）和LVS（版图与原理图一致性检查）是流片前的最后一道“安检”。很多工程师在Virtuoso中反复修改却依然被报错淹没。其实，“一次通过”并非运气，而是建立在严谨的流程与细节预判之上的必然结果。本文将避开枯燥的规则条文，直击Virtuoso环境下的实战避坑指南。
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告别手工点选：Cadence Virtuoso版图自动化脚本实战
在纳米级芯片设计流程中，版图工程师常需面对大量重复性操作：手动放置器件、逐条连接金属线、反复调整布局参数……这些繁琐任务不仅消耗大量时间，还容易因人为疏忽引入设计规则违反（DRV）。本文将分享基于Tcl与Python的Virtuoso自动化脚本开发经验，通过实际案例展示如何将重复劳动转化为高效可靠的自动化流程。
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基于Cadence Virtuoso的定制化模拟电路设计：运算放大器版图优化
在定制化模拟电路设计中，运算放大器作为核心模块，其版图质量直接影响电路性能、功耗和制造成本。Cadence Virtuoso凭借其强大的全定制设计能力，成为实现运算放大器版图优化的关键工具。本文将从布局优化、信号完整性保障和寄生参数控制三方面，探讨如何利用Virtuoso实现高效版图设计。
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