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美国芯片大厂或将采用纳米压印光刻机！
业内消息，近日美国存储芯片大厂美光计划首先采用日本佳能的纳米压印（NIL）光刻机，旨在通过佳能的纳米压印光刻机设备来进一步降低生产DRAM存储器的成本。
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佳能 CEO：纳米压印“光刻机”无法出口中国！
上个月佳能（Canon）发布了一个名为 FPA-1200NZ2C 的纳米压印半导体制造设备，号称通过纳米压印光刻（NIL）技术实现了目前最先进的半导体工艺。然而，近日佳能首席执行官三井藤夫在采访中表示，该设备无法出口到中国。
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VGROUP与INKRON共同开发下代光学组件的高折射率材料和纳米压印光刻技术
在EVG的NILPhotonics ® 技术处理中心，共同合作开发衍射光学的新材料，以应用于波导管、脸部识别传感器和其他光子组件2020年2月17日，奥地利ST. FLORIAN和芬兰埃斯波—EV Group(EVG)，为MEMS、纳米科技和半
