SiC MOSFET的体二极管的可靠性探讨

SiC MOSFET器件的体二极管是其组成的重要部分，其可靠性对系统设计非常重要，本文通过重点分析一篇典型外文文献来说明SiC mosfet的体二极管的可靠性机理，这个讨论并不针对任何一家厂商的产品，仅仅是做技术上的讨论。

图1 SiC mosfet的体二极管可靠性典型文献

本篇文章来自于美国Ohio州立大学电气及计算机工程系，对理解SiC mosfet的体二极管的可靠性机理有很大帮助。

图2 文章摘要

文章摘要表明，在1700V耐压的4H-SiC MOSFET的漂移层由于存在堆垛缺陷，会导致内部体二极管的降级，也就是说会导致在导通状态下有较差的载流性能，而在关断状态下具有较高的漏电流。

文章主要分析在商业化的1700V的4H-SiC MOSFET上，体二极管的正向电流应力效应。经过测试，发现一些器件，在经过内部体二极管的正向应力测试后，显示出明显的降级。这些测试表明，器件中存在非常多的数量的BPDs（基晶面错位），这些BPDs或许最初就存在于漂移层，或者他们被制程过程所引入，如常温离子注入过程等。

为了运行在高结温和大功率密度的应用上，SiC MOSFET，及JFET和IGBT，晶闸管等，在很大程度上改善了晶体生长技术，器件制成等。即使SiC MOSFET有制成技术的主要进步，单极型和双极型的SiC 器件，并未完全在高压大功率中使用，源于体二极管的降级。器件漂移层的BPDs导致堆垛缺陷，这会导致SiC MOSFET体二极管的降级。

内部的体二极管在正向偏置时，电子和空穴对在漂移层重组，这个重组过程提供了激活SF的能量，由于SF的存在，载流子的寿命和移动性会降低。重组导致的SF的影响，在于在体二极管的正向导通应力测试后，主载流子导通电流能力，以及正向阻断模式下的反向漏电流等方面。这一过程是在2007年基于10kV的SiC MOSFET展示过。

由于堆垛缺陷大小取决于漂移层厚度，那么，由于高压器件具有更厚的漂移层，所以，体二极管的降级更多的在高压器件上。BPDs最初来自于衬底，在外延层生长中形成（较厚的外延对应长生长时间及更多的掉落物夹杂），或者在随后的器件制造中产生。近年来，Stahlbush et al也报告了BPDs可以来自于高剂量铝离子注入过程产生。

通过以上堆垛缺陷的机理分析，本文的主要目的是基于商业化的1700V的SiC MOSFET上，通过实验来揭示堆垛缺陷如何影响主载流子导通和反向漏电流的性能。

图3 实验所需要的高压1700V器件

从所需要的器件上看，有平面型的器件，也有沟槽型器件，所有的测试都是基于以上器件。

本文涉及到的测试，主要包括三象限ID-VD特性，一象限ID-VD,ID-VG特性，正向阻断模式时的正向漏电流特性，均在常温下进行了测量。封装器件的I-V曲线测试是使用Keysight B1505A功率器件分析仪。为了实现正向偏置应力在体二极管上，10个器件串联在一起，体二极管正向偏置，如图4所示。

图4 体二极管正向应力实验电路图

直流电源电流设置为合适的电流等级。隔离DC/DC变换器和LDO用来给每一个器件以确保稳定的运行期间的VGS电压。

为了实现体二极管的正向偏置，负偏置电压应用到drain和source之间，一个-5V的偏置电压应用到门级去确保完全关断SiC MOSFET的通道。体二极管正向导通10小时, 跟随这个初始的应力，所有的测试重复进行。应力测试之后，在电气测试前，器件允许冷却到室温，这个过程重复20小时，和100小时。在体二极管的正向偏置应力期间，器件安装在散热片上，采用一个水冷却器保持MOSFET封装的case温度低于50C.

从图3的各个厂家的器件来说，体二极管的三象限ID-VD曲线在图5显示。

图5 各个厂家的1700V的SiC DMOSFET的体二极管的三象限的ID-VD特性降级，器件E和G的器件应力为5A, D器件应力为3.5A

在器件G中，10个器件中的2个显示出增加应力时间后的正向电压的增加。100小时正向偏置应力后，正向电压的漂移高达9%。当MOSFET通道关断，体二极管正向偏置时，p-well区域的空穴被注入到了漂移层。电子空穴在漂移层的重组提供了激活SFs的能量。重组引入的SFs导致载流子寿命和移动性的减小。此外，SFs的空间规模取决于漂移层厚度，例如1700V 4H-SiC MOSFET的漂移层厚度大约20微米，生长在4度离轴衬底上（优化外延生长条件，外延生长4度斜切，可以将BPD转化为TED,即Threading edge dislocations，2004年BPD到TED的转化率为90%，2004年以来，通过优化生长条件，可以达到99.99%的转化率，形成优良的低BPD密度的衬底）。这样的话，SF在上表面的注入长度是大约为20微米/tan 4度=286微米，被测试的D器件在正向应力测试后降级，如图5上所示。

由于3.5A是D器件的电流额定值，所以，正向电压在3.5A下测试确认。在正向应力测试前，正向电压测量值为6V.在引入正向应力测试100小时后，其正向电压增加到接近9V.D器件的正向电压漂移量是G器件正向电压漂移的6倍。

因此，这些结果表明4个原因中的一个或许是导致这样一个高度降级的结果。首先，器件D或许采用常温铝离子注入去形成P+接触，这会产生很多BPSs。其次，其它制程或许会导致生成BPDs。第三，起始外延层具有很多BPDs。最后，BPDs可以从铝离子注入区引入，并在退火过程中划过外延层。

从上面图示来看，所有厂家的器件显示出内置的电压是接近-3V的，门极电压接近-5V。器件E在正向偏置后，这里没有体二极管的电流降级。这表明这个器件用足够低BPD外延层制作，或者说体二极管以某种方式阻止了正向偏置。

图6 在门级电压VGS=20V时，各个厂家的1700V的SiC DMOSFET在第一象限的ID-VD曲线。曲线显示出体二极管电流应力测试前和后的特性，器件E和G是5A,器件D是3.5A.

一象限的ID-VD曲线，在门极电压20V时，正向应力时间10小时，20小时，100小时的结果如图6所示。它显示出那些体二极管降级的器件，其导通电阻有所增加（体现在曲线斜率）。导通电阻增加，这是完全由主要载流子导通主导的，在器件D和G上被观察到，由于SF不仅仅作为重组陷阱，而且也中断主要载流子的流动。

器件D显示出最大量的Rdson增加，大约3.8倍，在100小时的应力测试后，在所有的被测试器件中有源区那里具有最高数目的SF。

图7 第一象限的ID-VD曲线降级，在漏极电压为0.1V时，对于从各个厂家的1700V的SiC DMOSFET来说，曲线展示出体二极管电流应力测试前后的状态，器件E和G为5A,器件D为3.5A

Drain电压0.1V时的一象限的ID-VD曲线，作为一个正向应力时间的函数，展示在图7中.

这里展示出门限电压在体二极管应力测试后没有改变。再一次的，drain电流在那些具有体二极管降级的器件中降级了，由于SF仅影响漂移层的主要载流子导通。此外，非常清楚的是器件D中，几乎所有SF被激活了，在20小时后，由于快速的drain电流下降。超过20小时后，仅仅由少量的drain电流改变（体现在斜率上）。

图8 各个厂家的1700V SiC DMOSFET在门级电压为0V时，体二极管应力测试前后的室温下的反向偏置特性状态，器件E和G为5A体二极管应力为5A,器件D的体二极管应力为3.5A.

常温下，在正向阻断模式中的正向漏电流，在应力测试前后的状态如图8所示。

随着增加体二极管的应力，正向漏电流在器件G上逐步增加，进一步的，产生的击穿电压的降低，归因于漏电流的增加。同样的，有源区中的击穿，看起来是由重组引入的SF造成。然而器件D和E显示出，并没有大的漏电流的改变。器件E的结果是我们所期望的，因为这家厂商或许使用的足够低的BPD外延层，如II-A中讨论的。然而，器件D不显示出高的漏电流或者减小的阻断，在应力测试后，即使器件有源区具有很多SFs。因此，或许事实是击穿发生的边沿端部区域，那里没有什么SF。

这些结果对于小于1700V耐压的SiC mosfet的设计和制成影响也很大。在SiC MOSFET中，一些厂商或许使用大剂量的AL离子注入制成，在室温下去形成P+接触。尽管这个过程可以减小器件的成本，但它产生了新的BPDs.如果SiC MOSFET应用，是不包含独立的续流二极管的高频开关应用时，内部体二极管将在一部分开关周期中导通。

另外，SiC MOSFET内部并联肖特基二极管时，是另一种改善的方法，以减小体二极管降级。此外，使用独立的续流二极管芯片，或者在漂移层阻断注入少子是一个好方法。

总结：本文调查了在商业化的多家典型著名厂商的1700V的SiC MOSFET中，体二极管降级的效应。在正向应力测试后，已经存在的或者制程引入的BPDs导致的SFs，会导致体二极管明显的降级。只有一家厂商E，在10片被测器件上，100小时应力后不显示任何降级。另外两家的器件显示出非常大程度的降级。

在主MOSFET中，使用一个外部的肖特基二极管或者内置的肖特基二极管，可以有效阻止SiC MOSFET的体二极管降级。

一般来说，对于小于15微米的外延，材料缺陷水平足以低到商业化1700V或者3300V的SiC MOSFET，随着外延层厚度的提升，挑战越来越大，相信行业的发展会让衬底和外延的生长得以有更多改善。