嵌入半导体创新的关键节点：TEL的产品版图与战略雄心

当人工智能重塑全球算力格局，半导体产业正在经历60年来最深刻的一次技术跃迁。从存储器的三维堆叠到逻辑芯片的埃级制程，这一次工艺演进的背后，也离不开制造设备的同步革新。在这场产业变革中，半导体设备巨头Tokyo Electron(TEL)的身影愈发关键。TEL不仅以92%的涂胶显影设备市占率领跑光刻工艺配套领域，更以覆盖成膜、刻蚀、清洗、键合等核心工艺的完整产品矩阵，深度嵌入全球主流晶圆厂的生产流程之中。

强大产品力奠定领先地位

TEL的技术版图围绕前道制造中最核心的四大工艺展开：成膜、涂胶显影、刻蚀、清洗。在这四个领域，TEL的全球市场份额均处于第一或第二的位置，且每一条产品线背后都有具体的技术突破作为支撑。同时，TEL还以全球第一的晶圆探针设备市占率和全球第二的晶圆键合设备市占率，将产品触角延伸至晶圆测试与封装互连领域，形成从前道制造到后道集成的全链条能力。

涂胶显影是TEL产品最具影响力的领域。TEL在这一细分市场排名全球第一， 其中EUV曝光工艺配套的涂胶显影设备市占率达100%，与ASML的EUV光刻机形成深度技术绑定。旗舰产品CLEAN TRACK™ LITHIUS Pro™ Z已成为全球主流晶圆厂光刻工艺的标准配置。在此基础上，TEL还推出了Ultimate Wet Development技术。作为现有涂胶显影技术的延伸，该技术与现有设备高度兼容，已率先在D1b DRAM节点实现量产导入，并正在向D1c DRAM及更先进节点推进评估。

刻蚀是近年来TEL重点突破、成效显著的领域。在等离子刻蚀和气相化学刻蚀两大方向上，TEL分别确立了全球第二和全球第一的市场地位。刻蚀设备的核心竞争力，在于对气体供给、副产物排出与能量垂直传导三大参数的精细调控。TEL通过将方波与脉冲参数相结合，针对客户具体的器件结构提供高度定制化的解决方案，在导体刻蚀与介电质刻蚀两个主要细分方向上均已形成扎实的技术竞争力。代表性产品Tactras™和Episode™ UL覆盖了从普通刻蚀到高深宽比刻蚀的广泛应用场景。

TEL在批处理沉积设备领域排名全球第一，金属沉积设备位居全球第二。旗下产品线涵盖TELINDY PLUS™、NT333™、Episode™1等，覆盖从氧化扩散、化学气相沉积到原子层沉积的多种工艺路径。面向下一代制程，TEL正积极布局PECVD和PVD市场，通过切入晶体管形成阶段的接触间隔层工艺、下一代互连的金属间隙填充，以及可有效降低寄生电容的气隙技术，在更先进的制程节点上完成提前布局。

清洗设备方面，TEL同样排名全球第一，代表性产品Certas LEAGA™与CELLESTA™已在业内建立广泛的客户基础。在新产品布局上，TEL推出的ZEXSTA™清洗系统专为3D NAND制造中的氮化硅去除工艺而设计。随着DRAM从2D向3D结构演进、清洗工艺步数持续增加，ZEXSTA™的应用范围有望从特定工艺步骤延伸至更广泛的清洗与精细湿法刻蚀场景，进一步扩大TEL在清洗市场的领先优势。

截至2025年12月，TEL全球累计出货设备已达99,000台，年出货量维持在4,000至6,000台的规模，规模效应进一步强化了其在工艺服务与客户支持方面的持续优势。

卡位3D集成时代

半导体产业正在经历一场深刻的结构性变革，从平面扩展走向立体堆叠，晶圆键合技术由此成为推动下一代先进封装和存储器件发展的关键工艺。TEL预计，从2025年到2030年，键合设备的潜在市场年复合增长率将高达约24%，到2030年市场规模将达到3000亿日元，增速远超整体晶圆制造设备市场。目前，TEL在键合设备市场的份额已超过20%，并在CMOS图像传感器和高带宽存储器(HBM)领域积累了丰富的量产交付经验，这是其进一步拓展市场的坚实基础。

在技术方向上，TEL正积极推进熔融键合(Fusion Bonding)与铜混合键合(Cu Hybrid Bonding)两大路线的开发，并处于行业前列。核心设备Synapse™ Si晶圆键合机已广泛应用于晶圆对晶圆(W2W)工艺，将前道工艺中积累的等离子处理能力与高洁净度清洗技术有机融入键合系统。

激光相关产品线亦在持续完善，激光修整系统Ulucus™ L与激光剥离系统Ulucus™ LX正配合客户的量产计划推进评估与认证，目标应用覆盖先进逻辑/代工、3D NAND及DRAM等主流场景。

业界一致认为，晶片级先进封装的应用空间将在未来5至10年内显著扩大，届时后道先进封装将与前道工艺共同成为半导体性能提升的重要驱动力。TEL将紧随这一技术趋势适时扩展业务边界。值得关注的是，先进封装设备的毛利率与前道设备基本相当，这意味着键合业务的持续成长，将成为TEL整体盈利能力提升的重要支撑。

持续的关注和投入是创新的底座

2025财年，TEL实现净销售额约2.4315万亿日元，营业利润率达28.7%，营业利润突破6973亿日元，交出了一份颇具分量的成绩单。着眼未来，公司中期经营计划将2027财年的净销售额目标锁定为3万亿日元、营业利润率35%。一旦实现，营业利润将突破1万亿日元大关。这一目标的背后，折射出公司对自身技术竞争力的高度自信。

支撑这种信心的是过去十年间持续累积、从未间断的研发投入。2026财年，TEL研发支出预计将达2900亿日元，资本支出高达2400亿日元，两项合计规模在同业中首屈一指。放眼2025至2029财年的五年规划，研发投资目标合计1.5万亿日元、资本支出7000亿日元，并计划以每年约2000人的节奏新增员工10000人。人才、资金与基础设施的同步扩张，体现的是TEL为下一个技术周期所做的全面布局，而非单纯的产能扩张。

这份底气，在产品层面已有具体呈现。TEL今日展示的一系列新技术与新产品，正是过去十年持续研发投资的集中成果。更重要的是，TEL提前介入客户需求、预判技术路径的能力也已大幅提升，从早期阶段便深度参与客户的工艺开发，而非等待需求明确后再做响应。正是沿着这条以研发为引擎、以工艺突破为锚点的路径，TEL完成了自身实力的跃升。

稳健经营，扎根中国

中国市场在TEL的全球业务版图中始终占有重要地位。从各季度的区域销售数据来看，中国业务占比长期维持在34%至49%之间。2026财年第三季度(截至2025年12月)，中国区销售额约占当季总收入的31.8%，位居各区域之首。

TEL在中国的运营布局十分完善。公司以上海为中国区总部，在昆山设立制造中心，并在北京、西安、南京、武汉、无锡、合肥、深圳、成都等主要城市均设有销售与现场服务基地，构建起覆盖广泛、响应及时的本地化支持体系。

在针对中国市场的产品策略上，TEL依托广泛的产品组合和成熟的本地化服务能力，持续推进工艺认证与量产导入。面向中国半导体产业成熟制程大规模扩产的现实需求，TEL正重点推广气团束工艺设备UltraTrimmer Plus，该设备能够精准应对晶圆边缘修整的精细化要求，在提升量产稳定性方面具有切实价值，契合中国客户当前阶段对良率与工艺一致性的核心诉求。

TEL对中国市场的持续投入，是其全球运营、本地服务长期战略的自然延伸。面对复杂多变的外部环境，TEL选择以技术实力和服务质量作为立身之本，与中国半导体产业维系深度合作关系，在不确定性中寻求稳定的发展路径。

结语

夯实技术根基、卡位新兴的键合市场、深度经营中国这一全球最具增量潜力的市场。这三条主线共同构成了TEL当下清晰的战略坐标。在人工智能驱动算力基础设施高速扩张的时代背景下，作为连接芯片设计与物理制造的关键一环，TEL正以更扎实的技术积累和更完整的产品布局，与客户携手应对半导体创新所带来的每一个新挑战。